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中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决 技术研发步入正轨

2019-12-9 21:02| 发布者: | 查看: 71| 评论: 0

摘要:   在半导体工艺进入 10nm 节点之后,制造越来越困难,其中最复杂的一步光刻需要用到 EUV 光刻机了,而后者目前只有荷兰 ASML 阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台 EUV 光刻机,日前该公司表示与 ASML 之 ...

  在半导体工艺进入 10nm 节点之后,制造越来越困难,其中最复杂的一步——光刻需要用到 EUV 光刻机了,而后者目前只有荷兰 ASML 阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台 EUV 光刻机,日前该公司表示与 ASML 之间已解决光刻机的问题,EUV 技术研发步入正轨。

  前不久有消息称 ASML 停止对中芯国际供应 EUV 光刻机,随后 ASML 公司表示不是停供,而是延期,主要是在准备该国政府的出口申请文本工作。

  中芯国际董事长周子学日前在韩国访问,韩媒报道称周子学表态已经解决了与 ASML 之间就光刻机供应存在的问题,强调中芯国际在先进工艺上的研发、生产一直处于稳定的轨道上,与客户及设备供应商之间没有任何问题。

  ASML 公司是 EUV 光刻机目前唯一的供应商,今年四季度,ASML 预计交付 8 台 EUV 光刻机,平均每台价格达到了 1.2 亿欧元,折合人民币 9.3 亿元,堪称人类最昂贵的设备了。


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